而現(xiàn)在他則是翻來(lái)覆去的看這篇很短的發(fā)言，看了半天，感覺(jué)他好像啥都沒(méi)有說(shuō)。

        其實(shí)在這個(gè)會(huì)議上，真正最具備含金量的在趙長(zhǎng)安看來(lái)，是MIT研發(fā)報(bào)告里面提到的那句‘在193nm浸沒(méi)的情況下157nm問(wèn)題常見(jiàn)的普遍困難都不存在，幾乎等同于現(xiàn)今處于干式介質(zhì)中193nm步進(jìn)式光刻機(jī)效果。’

        這句話里面暗含著一個(gè)重大的，如同窗戶紙一樣，卻直到03年7月才開(kāi)始被國(guó)半導(dǎo)體制造技術(shù)聯(lián)盟，成員包括m國(guó)防部、能源部、國(guó)家實(shí)驗(yàn)室、國(guó)家科學(xué)委員會(huì)、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)及技術(shù)院、MIT，得州大學(xué)，ASML，——捅破。

        就是既然193nm在浸沒(méi)式液體之中既然依然是那么的穩(wěn)定，為什么一定要使用難題很多的157nm作為浸沒(méi)式光源，為什么就不能依然用193nm。

        而現(xiàn)在所有人都這么認(rèn)為，既然193nm在干式介質(zhì)就已經(jīng)很穩(wěn)定，為什么要脫了褲子放屁，要把它放在液態(tài)流體之中多此一舉？

        這里面唯一所欠缺的一個(gè)幾乎這些技術(shù)人員都知道的常識(shí)要素，沒(méi)有被他們考慮進(jìn)去，就是液體和干式介質(zhì)之間，不同的折射率。

        實(shí)際上在趙長(zhǎng)安的前一世，林博士在自傳中說(shuō)到，他在不久前的SPIE微光刻，發(fā)表了很具有重量級(jí)的發(fā)言。

        “我在研討會(huì)發(fā)表用水配合193納米，能比干式的157納米多增進(jìn)一世代，而且比后者容易開(kāi)發(fā)。結(jié)果全場(chǎng)轟動(dòng)。我演講后，所有交談的時(shí)間大家都在討論這個(gè)題目。”

        實(shí)際上，似乎真的沒(méi)有這個(gè)事實(shí)，因?yàn)樗陌l(fā)言人家留有錄音，這個(gè)可真是做不得假。

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