第3134章全球SPIE微光刻會議

        就在幾天前的全球SPIE微光刻會議上，MIT做出研發報告157nm浸沒實驗的結果。

        “在去離子水純化水狀態下的浸沒實驗，157nmDUV依然有著在純氮環境下的諸多問題無法解決。然而對于193nm的曝光是足夠透明的，在193nm浸沒的情況下157nm問題常見的普遍困難都不存在，幾乎等同于現今處于干式介質中193nm步進式光刻機效果。”

        &的這份報告，讓現場與會的全球微影領域的頂尖大拿們紛紛失望不已，也就是在這個報告出來了以后，這幾天世界微光刻領域對浸沒式光刻技術紛紛發表了類似于‘至少現今技術還不成熟’的觀點。

        這個觀點，有著這些微光刻領域專家們的真實的想法，更有著Nikon和為了能繼續保持在這個領域的權威和壟斷，以及已經砸進去幾十億美元的游說和新聞引導。

        在這個會議上，林博士也參加了這場會議，會議的主持方要求他發言‘浸潤式微影技術’。

        “由于NA已經大于0.9，并且隨著NA的進一步增加而回報遞減，浸沒式光刻可能是額外節點的關鍵。浸沒式光刻的關鍵是具有在光學波長中具有足夠的透射性，并且對透鏡和抗蝕劑表面是惰性的。開始研究浸沒流體是相對便宜的。一旦確定了流體，就必須解決許多問題；即，抗蝕劑的脫氣，曝光或掃描過程中流體折射率的不均勻、流體的摩擦導致的掃描速度減慢，以及潮濕環境的混亂。——”

        這時候趙長安手里面拿的一份文件，就是在這次全球SPIE微光刻會議上，各個專家級權威的發言。

        其中他看了林博士的發言的時間最長，對于別的專家的發言，基本上都是快速的瀏覽。

        對于趙長安前一世這個會議上林博士的發言，趙長安沒有看到過，因為那個時候他怎么可能對這種枯燥的技術發言感興趣。

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