1、光刻機(jī)

        功能：在半導(dǎo)體基材上硅片表面勻膠，將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上，把器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上。

        主要企業(yè)品牌：

        國(guó)際：荷蘭阿斯麥asml公司、美國(guó)泛林半導(dǎo)體公司、日本尼康公司、日本公司、美國(guó)abm公司、德國(guó)德國(guó)suss公司、美國(guó)mycro公司。

        國(guó)內(nèi)：中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十八所、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十五所、上海機(jī)械廠、成都南光實(shí)業(yè)股份有限公司。

        &等離子體刻蝕系統(tǒng)

        設(shè)備功能：一種或多種氣體原子或分子混合于反應(yīng)腔室中，在外部能量作用下如射頻、微波等形成等離子體，一方面等離子體中的活性基團(tuán)與待刻蝕表面材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成可揮發(fā)產(chǎn)物；另一方面等離子體中的離子在偏壓的作用下被引導(dǎo)和加速，實(shí)現(xiàn)對(duì)待刻蝕表面進(jìn)行定向的腐蝕和加速腐蝕。

        主要企業(yè)品牌：

        國(guó)際：英國(guó)牛津儀器公司、美國(guó)torr公司、美國(guó)gatan公司、英國(guó)公司、美國(guó)利曼公司、美國(guó)pelco公司。

        國(guó)內(nèi)：北京儀器廠、北京七星華創(chuàng)電子有限公司、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十八所、戈德爾等離子科技香港控股有限公司、中國(guó)科學(xué)院微電子研究所、北方微電子、北京東方中科集成科技股份有限公司、北京創(chuàng)世威納科技。

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