在八十年代之前，光刻機都是接觸接近式光刻機、掃描投影式光刻機等這些迭代技術，而八十年代之后，就有了進式掃描投影光刻機。

        當時是由a**l在一九八六年首先推出的一臺光刻機。

        采用193nmarf激光光源，實現了光刻過程中，掩模和硅片的同步移動，并且采用了縮小投影鏡頭，縮小比例達到5：1，有效提升了掩模的使用效率和曝光精度，將芯片的制程和生產效率提升了一個臺階。

        參照現在的路由器芯片、超級電腦芯片等，那么以前的光刻機就只能被淘汰了。

        擁抱新的光刻機技術，并非簡單。

        因為造一臺193nmarf激光光源的光刻機，并沒有那么簡單。

        其次，就算造出來這樣一臺光刻機，想要使用也不是那么簡單的，因為能耗實在太大了。

        很耗電！

        光刻機開機之后，到完成整個芯片制造過程，由于不停地反射，調整角度，最后到底晶圓片上面的光，消耗大量的電。

        還有就是這個過程中，會產生很多熱量，又需要散熱手段，這又消耗不菲的能量。

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